Limpieza por chorro de nieve de CO2 para aplicaciones de gran pureza
En cada vez más sectores industriales, las especificaciones de limpieza de partículas hasta el rango submicrométrico y los requisitos de limpieza fílmica excepcionalmente elevados hacen necesario trasladar los procesos de limpieza a un entorno limpio o puro. Se trata de tareas como la limpieza de componentes metálicos y ópticos —por ejemplo, antes o después del recubrimiento— para la litografía DUV y EUV en la industria proveedora de semiconductores, así como de piezas estructurales para satélites geoestacionarios en la tecnología espacial. En la producción de microchips, hay que eliminar restos de polvo o residuos de aserrado tras el corte de obleas con láser o sierras de diamante. En la tecnología de sensores y la electrónica, piezas como las ópticas y las carcasas de los sistemas de asistencia de los vehículos y las cámaras de los smartphones deben estar excepcionalmente limpias para garantizar un funcionamiento duradero y fiable. Además, hay que limpiar las superficies de contacto antes de pegarlas, así como las piezas electrónicas ya equipadas con componentes como los generadores de imágenes. En el sector de los dispositivos médicos y la industria farmacéutica, el uso seguro de productos como implantes, instrumentos y soluciones lab-on-chip también depende de la limpieza de las piezas. Por muy diversas que sean estas tareas de limpieza, las especificaciones de limpieza actuales ya no pueden cumplirse de forma fiable con procesos convencionales como el aire comprimido, el cepillado o la limpieza química húmeda.
Nieve para una limpieza excepcional
La tecnología de chorro de nieve quattroClean escalable de acp systems AG es una solución probada y compatible con salas blancas para este tipo de tareas. El proceso de limpieza es en seco y utiliza CO2 líquido, neutro para el clima. La clave de los resultados de limpieza fiables es el diseño de la boquilla anular de dos sustancias sin desgaste a través de la cual se introduce el dióxido de carbono. Al salir de la boquilla, el CO2 se expande para formar finas partículas de nieve, que luego son aglutinadas por un chorro separado de aire comprimido y aceleradas a velocidad supersónica. El chorro se concentra fácilmente en una zona específica. Al impactar sobre la superficie a limpiar, los cuatro efectos (térmico, mecánico, disolvente y sublimación) de la tecnología de chorro de nieve quattroClean garantizan la eliminación eficaz y uniforme de partículas hasta el rango submicrónico y de contaminantes peliculares.
Dado que el dióxido de carbono cristalino se sublima completamente durante la limpieza, las superficies o piezas quedan secas. Al mismo tiempo, el proceso es tan suave con los materiales que puede utilizarse incluso para limpiar superficies delicadas, sensibles y de estructura fina.
El diseño del proceso y del sistema garantiza excelentes resultados de limpieza
El proceso de limpieza total o parcial se adapta a los requisitos mediante pruebas en el centro técnico de acp systems. Todos los parámetros del proceso, como los caudales de aire comprimido y dióxido de carbono, el número de boquillas, la superficie a limpiar y el tiempo de limpieza, se adaptan con precisión a cada aplicación teniendo en cuenta las propiedades del material, el tipo de suciedad y las especificaciones de limpieza. Estos parámetros pueden archivarse como programas de limpieza específicos para cada pieza en el control del sistema. Durante la limpieza, la supervisión y el control integrales del proceso garantizan que cada pieza se limpie utilizando los parámetros de proceso validados.
El diseño y las características de los sistemas de limpieza modulares están adaptados a la clase de sala blanca correspondiente. Por ello, están fabricados íntegramente en acero inoxidable y presentan superficies lisas y homogéneas. El diseño optimizado para el flujo de la cámara de proceso garantiza que las impurezas desprendidas y el dióxido de carbono sublimado se eliminen de forma rápida y eficaz mediante el sistema de extracción integrado. El equipo de preparación de medios adaptado a la tarea en cuestión también garantiza que se evitan la contaminación cruzada y la recontaminación.
Soluciones para la limpieza integrada, parcialmente automatizada y manual
Para adaptar de forma óptima la solución de limpieza a los requisitos respectivos y a la situación de producción, acp systems ofrece diversas soluciones modulares y sistemas planificados individualmente. La compacta JetCell-HP se ha desarrollado para tareas de limpieza flexibles y automatizadas. La célula de limpieza plug & play puede integrarse fácilmente en entornos de fabricación conectados o funcionar como solución independiente. Las interfaces integradas permiten conectar el sistema de limpieza controlable digitalmente a ordenadores host de nivel superior. Todos los datos recopilados durante la supervisión y el control del proceso pueden registrarse automáticamente y transferirse al ordenador central. La JetStation-HP es una célula de limpieza cerrada para un funcionamiento parcialmente automatizado o manual. Con estas alternativas compatibles con salas limpias, toda la tecnología para el proceso de chorro de nieve, así como el equipo de preparación de medios, están integrados en la esbelta carcasa del sistema. El sistema se pone en funcionamiento simplemente conectándolo al suministro de dióxido de carbono y aire comprimido.
El polvo residual formado durante el corte de obleas con láser se elimina eficazmente con la tecnología de chorro de nieve quattroClean. La limpieza se comprobó mediante un microscopio digital con marcas de 0,4 mm de diámetro exterior. Foto: acp Systems.
Gracias a la interacción de los efectos de la tecnología de chorro de nieve quattroClean, la contaminación por partículas hasta el rango submicrométrico, así como la contaminación fílmica más fina, se elimina de forma fiable y consistente. Foto: acp Systems.
La JetStation-HP, diseñada y equipada para su uso en salas blancas, ha sido desarrollada para tareas de limpieza flexibles con los más altos requisitos de limpieza. Se carga manualmente y puede funcionar en modo parcial o totalmente automatizado como solución autónoma. Foto: acp Systems.
El proceso en sí, en el que todos los parámetros del proceso se adaptan con precisión a la aplicación correspondiente, las propiedades del material, la contaminación a eliminar y las especificaciones de limpieza, se diseña en el centro técnico de acp systems. Foto: acp Systems.
