Fujifilm adquiere Entegris, la empresa de productos químicos semiconductores de alta pureza, por 700 millones de dólares
Fujifilm Corporation ha llegado a un acuerdo*1 para adquirir el negocio de productos químicos de semiconductores para procesos de alta pureza (HPPC), CMC Materials KMG Corporation (KMG), de la empresa estadounidense Entegris, Inc. (Entegris) NASDAQ: ENTG por 700 millones de dólares*2. Con la adquisición de KMG, Fujifilm podrá ofrecer a sus clientes una gama más amplia de productos químicos electrónicos, incluida la línea de HPPC de KMG, utilizada para grabar y limpiar obleas de silicio en la producción de semiconductores, y que constituye un segmento creciente de los materiales utilizados en dicha producción. La línea de productos HPPC de KMG complementa los productos existentes de Fujifilm, que incluyen fotoresinas*3, materiales fotolitográficos, lodo CMP*4, limpiador post[1]CMP*5, precursores de películas finas*6, poliimida*7 y mosaico de control de ondas*8 (WCM).
“Nuestra misión es contribuir a la creación de una sociedad que enriquezca la vida de las personas desarrollando y suministrando nuevos materiales que respondan a nuevas necesidades. Las nuevas demandas van surgiendo a medida que cambia la sociedad y evoluciona la tecnología", añade Goto. “Esta inversión será un hito importante para acelerar aún más el crecimiento satisfaciendo las necesidades cada vez mayores de los compradores del sector de materiales electrónicos, que es el mayor negocio en el campo de los materiales avanzados. Al integrar los recursos de KMG, Fujifilm ofrecerá a los clientes una gama de productos más amplia y acelerará la innovación en la industria de los semiconductores”.
“Los recursos combinados de las dos empresas globales, con una sólida base de talento y plataformas tecnológicas complementarias, fomentarán el desarrollo de productos HPPC de próxima generación para mejorar aún más el rendimiento de los semiconductores”, afirma Tetsuya Iwasaki, vicepresidente corporativo y director general de la División de Materiales Electrónicos de Fujifilm Corporation. “Estamos entusiasmados con lo que nos depara el futuro y estamos deseando dar la bienvenida al equipo de KMG a Fujifilm. Juntos continuaremos con nuestro compromiso centrado en proporcionar soluciones innovadoras y completas a nuestros clientes”.
KMG utiliza su avanzada tecnología de purificación y su experiencia en control de calidad para desarrollar, fabricar y distribuir globalmente productos HPPC en el nivel ppt*9, incluyendo ácido sulfúrico de alta pureza, alcohol isopropílico (IPA) e hidróxido de amonio, así como mezclas especiales de ácidos y disolventes. Los HPPC constituyen un amplio grupo de productos químicos a granel muy utilizados en la fabricación de semiconductores para la limpieza y secado de obleas y la eliminación de contaminantes metálicos y residuos orgánicos.
Se prevé que el uso de HPPC aumente drásticamente con el crecimiento anual del 11%*10 de la industria de semiconductores y el aumento de los pasos de limpieza, grabado*11 y secado necesarios para la fabricación de semiconductores más avanzados. Con la previsión de que el sector global de los semiconductores alcance el billón de dólares en 2030*12, Fujifilm seguirá construyendo sobre sus cimientos como líder en la cadena de suministro de fabricación de semiconductores, anticipándose al importante crecimiento del sector.
*1: Un acuerdo fue firmado entre Fujifilm y CMC Materials LLC, una filial de Entegris.
*2: El coste de adquisición puede fluctuar, ya que se determina teniendo en cuenta el saldo de depósitos, los pasivos remunerados, el capital operativo y otros factores de la empresa adquirida en el momento de la compra. Se prevé que la adquisición se complete a finales de 2023, siempre y cuando se cumplan las condiciones de cierre habituales.
*3: Sustancia química sensible a la luz que se aplica a una oblea al crear un patrón de circuito durante la fabricación de semiconductores.
*4: Producto químico abrasivo utilizado en el proceso de planarización químico-mecánica (CMP) para nivelar uniformemente la superficie de semiconductores que presentan cableado y películas aislantes de dureza variable.
*5: Limpiador utilizado tras el pulido con lechada CMP para eliminar partículas, restos de metal y residuos orgánicos, protegiendo al mismo tiempo la
*6: Productos químicos especiales para electrónica suministrados por deposición química en fase vapor (CVD) para formar películas dieléctricas o de
*7: Material altamente resistente al calor y rendimiento aislante, utilizado para formar la película protectora del semiconductor y la capa de recableado.
*8: Término general que hace referencia a un grupo de materiales funcionales que controlan las ondas electromagnéticas (luz) de una amplia gama de longitudes de onda, incluidos los materiales fotosensibles pigmentados para la fabricación de filtros de color de un sensor de imagen, como el sensor CMOS utilizado en cámaras digitales y teléfonos inteligentes.
*9: ppt significa partes por billón, lo que indica que a contiene impurezas del orden de una trillonésima.
*10: Tasa media de crecimiento anual en 5 años desde 2021, citada de un informe sobre materiales semiconductores de la empresa de investigación “Linx”.
*11: Proceso que consiste en utilizar equipos de exposición para transferir la imagen de un circuito a una oblea de silicio y aplicar una acción química corrosiva para eliminar una capa metálica o de óxido innecesaria para formar un circuito semiconductor.
*12: McKinsey, “La década de los semiconductores: A trillion-dollar industry” 1 de abril de 2022
