Los tratamientos térmicos realizados en los hornos de vacío de la gama Turquoise de ECM Technologies están específicamente diseñados para las aleaciones sensibles a la oxidación: níquel, titanio, cromo, cobalto, molibdeno o, incluso, tungsteno, que deben tratarse en vacío primario o secundario.
El diseño de la gama Turquoise permite una carga externa a la instalación, con embarque directo de carga desde un soporte de carga fijado a la puerta del horno. Este modo de carga puede resultar útil para integraciones en entornos limpios.
Esta instalación compacta permite un amplio espectro de uso, con temperaturas de trabajo hasta 1.600 °C, al tiempo que funciona en vacío primario o secundario.
Complementos y ventajas:
La gama Turquoise responde a las necesidades de producción de sectores avanzados, como el médico, el aeronáutico o, incluso, el de la automoción. De hecho, el diseño patentado de nuestro resistor garantiza una perfecta homogeneidad, y el núcleo de calentamiento de molibdeno, así como el aislamiento metálico, avalan un tratamiento limpio y sin riesgo de contaminación.
Por último, hay disponible un dispositivo de enfriamiento acelerado por gas neutro para reducir el tiempo de enfriamiento e incrementar la productividad de la instalación.
El objetivo principal de la gama Turquoise reside en facilitar la carga del horno. Efectivamente, el diseño horizontal del horno simplifica la manipulación de las piezas durante las fases de carga y descarga.
Su construcción de calidad permite fusionar las características de un material de alta gama con la fiabilidad de un equipo industrial. Asimismo, la gama Turquoise se compone de instalaciones compactas, fáciles de implantar y que permiten una gran flexibilidad de uso.
Aplicaciones posibles:
- Distensión.
- Recocido.
- Maduración.
- Preparación de solución.
- Soldadura.
- Sinterizado.
- Tratamientos complementarios posfabricación.
Formatos y dimensiones:
- Turquoise 50-25-25: 500 x 250 x 250 (Longitud x Ancho x Alto (mm)).
- Disponible en otros formatos.
Opciones:
- Circuito de gas neutro y reductor.
- Vacío secundario.
- Enfriamiento acelerado con convección forzosa.
- Sistema humidificador de gases.
- Temperatura hasta 2.800 °C.
- Hipertemple.
- Uso de gases especiales: hidrógeno y otros gases reactivos.